Нитридные структуры

Описание
Технические характеристики
Макро Групп поставляет пластины структур нитридной эпитаксии (III-N)  производства компании Cree

На данный момент производитель способен вырастить слои в рамках указанных в документации диапазонов толщины, однородности, плотности дислокаций и кривизны (смотреть вкладку "Технические характеристики")

Эпитаксиальный рост осуществляется на SiC или Al2O3 подложках диаметром 3" или 4". Для заказа необходимо уточнить:

  • тип проводимости и диаметр подложки
  • количество эпитаксиальных слоев
  • материал, толщину каждого слоя
  • примеси и степень легирования
  • требования по дефектам и дислокациям
  • необходимое количество пластин

По всем вопросам обращайтесь к менеджеру направления.