| Каталог | Полупроводниковые материалы |

Прекурсоры для ALD и CVD

Чистые вещества для атомно-слоевого осаждения и химического осаждения из газовой фазы
ALD CVD

Прекурсоры для ALD и CVD

Макро Групп поставляет чистые вещества для атомно-слоевого осаждения и химического осаждения из газовой фазы производства Jiangsu Nata Opto-electronic Material Co., Ltd. 

 

Наименование Номер CAS Чистота органическая Чистота неорганическая Качество
TDMAT 3275-24-9 99,5% 6N Electronic Grade
HCDS 13465-77-5 99,5% 6N Electronic Grade
4MS 75-76-3 99.9% 7N Electronic Grade
OMCTS 556-67-2 99.9% 7.5N Electronic Grade
TEOS 78-10-4 99.99% 9N Electronic Grade
TICL 7550-45-0 / 6N Electronic Grade
TEB 150-46-9 99.99% 8.5N Electronic Grade
TEPO 78-40-0 99.99% 8.5N Electronic Grade

 

 

По всем вопросам обрщайтесь к менеджеру направления Валерии Смирновой по e-mail: Valeria.Smirnova@macrogroup.ru


Сопутствующие товары